2.2 Detection principle,microsystem

2.2 Detection principle,microsystem and proof of principle experiments
Gold microelectrodes on chip were used for the impedance analysis. The electrodes were produced with silicon micro fabrication technologies and included in a PDMS chamber. The electrodes were spaced 600 µm and the chamber volume was 36 nL(530 µm in width, 850 µm long and 80 µm deep)
Impedance spectra were collected at 50 frequencies logarithmically spaced between 1 KHz and 1 MHz, applying 100 mV excitation potential and 10 seconds pause at 0 mV between scans.
Bare electrodes were used for the analyses In such experimental condition the conductivity X is expressed as:

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

2.2 หลักการตรวจสอบไมโครและหลักฐานการทดลองหลักการ
microelectrodes ทองบนชิปถูกนำมาใช้สำหรับการวิเคราะห์ความต้านทาน ขั้วไฟฟ้าที่ผลิตด้วยเทคโนโลยีการผลิตซิลิกอนขนาดเล็กและรวมอยู่ในห้อง PDMS ขั้วไฟฟ้าห่าง 600 ไมโครเมตรและปริมาณห้อง 36 nL (530 ไมโครเมตรความกว้าง 850 เมตรยาว 80 เมตรลึก)
เปคตรัมอิมพิแดนที่ถูกเก็บรวบรวมที่ 50 ความถี่ระยะห่างลอการิทึมระหว่างวันที่ 1 KHz และ 1 MHz ใช้ 100 mV ศักยภาพกระตุ้นและ 10 วินาทีหยุดที่ 0 mV ระหว่างสแกน.
ขั้วไฟฟ้าเปลือยถูกนำมาใช้สำหรับการวิเคราะห์การทดลองในสภาพเช่นการนำเอ็กซ์จะแสดงเป็น:

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

2.2 การตรวจหาและหลักการ ไมโครซิสเต็มส์พิสูจน์หลักการของการทดลอง
ทอง microelectrodes บนชิปที่ใช้สำหรับการวิเคราะห์อิมพีแดนซ์ . ขั้วไฟฟ้าที่ถูกผลิตด้วยเทคโนโลยีการผลิตซิลิคอนไมโครและรวมอยู่ในตำหนักโดย . ขั้วไฟฟ้าที่ถูกเว้นระยะห่าง 600 µ M และห้องปริมาณ 36 NL ( 530 µ M กว้าง 850 µเมตรยาว 80 ม. ลึกµ )
อิมพีแดนซ์ที่ความถี่สเปกตรัมจำนวน 50 logarithmically เว้นระยะระหว่าง 1 kHz และ 1 MHz ใช้ 100 หาบกระตุ้นศักยภาพและ 10 วินาทีหยุดที่ 0 MV ระหว่างสแกน .
เปลือยขั้วไฟฟ้าใช้สำหรับการวิเคราะห์ในภาวะการทดลองเช่นการนำ X จะแสดงเป็น :